光敏技術指的是利用光敏材料的感光特性進行印章制作的方法。專用的光敏材料是一種超微泡材料，其表面的微孔孔徑非常小，平均孔徑小于30微米。本身具有儲油滲油及光閃熔特性。光敏材料在受到強光照射的時候，可以吸收光能并轉換成熱能，顏色越暗吸收的能量越多。曝光時，光敏材料表面見光部分瞬間吸收大量的光能后，溫度迅速上升并達到熔點，閃光結束后，表面熔體的溫度迅速降低，形成一定厚度和強度的薄膜，這層薄膜同時起到封孔閉孔的作用，并隔絕印油的滲透。這就是光敏章成像的原理。利用光敏材料的這一特性，用激光打印機將章稿打印在具有透光特性的硫酸紙或激光膠片上，將其覆蓋在光敏材料上后放在曝光機內曝光，由于章稿本身具有黑度不能透光，因而章稿覆蓋的光敏材料沒有受到光照仍然可以儲油滲油，而其他部分則由于受到光照發(fā)生凝固不能滲油，從而實現了印章的制作。由于激光打印機的打印精度在1200DPI以上，加之光敏材料本身的超微孔結構，因此，光敏印章的精度比采用激光雕刻的印章或其它技術方式制作的印章的蓋印精度高出許多，是目前印章制作精度的一種印章。