潔凈室中的溫濕度控制

潔凈空間的溫濕度主要是根據(jù)工藝要求來確定，但在滿足工藝要求的條件下，應考慮到人的舒適度感。隨著空氣潔凈度要求的提高，出現(xiàn)了工藝對溫濕度的要求也越來越嚴的趨勢。具體工藝對溫度的要求以后還要列舉，但作為總的原則看，由于加工精度越來越精細，所以對溫度波動范圍的要求越來越小。例如在大規(guī)模集成電路生產(chǎn)的光刻曝光工藝中，作為掩膜板材料的玻璃與硅片的熱膨脹系數(shù)的差要求越來越小。直徑100 um的硅片，溫度上升1度，就引起了0.24um線性膨脹，所以必須有±0.1度的恒溫，同時要求濕度值一般較低，因為人出汗以后，對產(chǎn)品將有污染，特別是怕鈉的半導體車間，這種車間溫度不宜超過25度，濕度過高產(chǎn)生的問題更多。相對濕度超過55%時，冷卻水管壁上會結露，如果發(fā)生在精密裝置或電路中，就會引起各種事故。相對濕度在50%時易生銹。此外，濕度太高時將通過空氣中的水分子把硅片表面粘著的灰塵化學吸附在表面難以清除。相對濕度越高,粘附的越難去掉，但當相對濕度低于30%時，又由于靜電力的作用使粒子也容易吸附于表面，同時大量半導體器件容易發(fā)生擊穿。對于硅片生產(chǎn)濕度范圍為35—45%。

潔凈管道(Clean Tube)：將產(chǎn)品流程經(jīng)過的自動生產(chǎn)線包圍并凈化處理，將潔凈度等級提至100級以上。因產(chǎn)品和作業(yè)員及發(fā)塵環(huán)境相互隔離，少量之送風即可得到良好之潔凈度，可節(jié)省能源，不需人工的自動化生產(chǎn)線為適宜使用。藥品、食品業(yè)界及半導體業(yè)界均適用。

對于凈化空調系統(tǒng)的加濕問題而言，常用的加濕方法有很多種，有淋水、濕膜、高壓噴霧超聲波等水加濕，這些加濕方法屬等焓加濕過程。而噴蒸汽、噴干蒸汽和電極（電熱）加濕是向空調送風中噴蒸汽，其加濕方法屬等溫加濕過程。

從確保潔凈室內(nèi)相對濕度的精度而言，上述的淋水、高壓噴霧、濕膜等水加濕方法其控制的精度不高，故當潔凈室內(nèi)相對濕度精度要求≤±10%時不采用。而采用噴干蒸汽和電熱（電極）式加濕的方法。噴干蒸汽的加濕方法要注意干蒸汽加濕器有一個噴蒸汽效率的問題，并非噴入空調箱內(nèi)的蒸汽全部加入到空調送風中，而其中有一部分變成凝結水排放出來。因此，選擇干蒸汽加濕的加濕量時應考慮其噴蒸的效率。有的廠家給出的噴蒸效率為70%。

光學微電子凈化工程-潔凈車間技術解決方案

光學微電子凈化工程之定義為將一定空間范圍內(nèi)之空氣中的微塵粒子、有害空氣、等之污染物排除，并將室內(nèi)之溫濕度、潔凈度、室內(nèi)壓力、氣流速度與氣流分布、噪音震動及照明、靜電控制在某一需求范圍內(nèi)，而所給于特別設計之密閉空間。

光學微電子凈化工程亦名無塵室或清凈室，已是半導體、精密制造、液晶制造、光學制造、線路板制造和生物化學、醫(yī)藥、食品制造等行業(yè)不可或缺的重要設施。近幾年來，由于技術之創(chuàng)新發(fā)展，對于產(chǎn)品的高精密度化、細小型化之需求更為迫切，如超大型積體電路之研究制造，已成為世界各國在科技發(fā)展上極為重視的項目，而我公司的設計理念及施工技術在行業(yè)中則處于地位。