濱州發(fā)明專利申請(qǐng)?jiān)u職稱好處專利申請(qǐng)分幾步

一、我國(guó)授予發(fā)明專利權(quán)的實(shí)質(zhì)條件是什么？

（1）新穎性：①時(shí)間標(biāo)準(zhǔn)②地區(qū)標(biāo)準(zhǔn)③公開標(biāo)準(zhǔn)（2）創(chuàng)造性。（3）實(shí)用性。（應(yīng)對(duì)每一小點(diǎn)適當(dāng)展開說(shuō)明）

二、簡(jiǎn)述專利權(quán)人的權(quán)利和義務(wù)。

專利權(quán)人權(quán)利：

（1）自己實(shí)施并禁止他人實(shí)施專利的權(quán)利。

（2）許可他人實(shí)施專利的權(quán)利。

（3）轉(zhuǎn)讓專利的權(quán)利。

（4）表明專利標(biāo)記的權(quán)利。

（5）放棄專利的權(quán)利。

專利權(quán)人義務(wù)：

（1）繳納年費(fèi)的義務(wù)。

（2）按國(guó)家計(jì)劃推廣應(yīng)用專利的義務(wù)。

（3）職務(wù)發(fā)明創(chuàng)造權(quán)利人對(duì)發(fā)明或設(shè)計(jì)人獎(jiǎng)勵(lì)或支付報(bào)酬的義務(wù)。

（4）正確行使專利權(quán)不濫用專利權(quán)的義務(wù)。

三、簡(jiǎn)述專利實(shí)施許可的特征。

（1）專利實(shí)施許可是以專利權(quán)的有效存在為前提。

（2）專利實(shí)施許可是以出讓專利實(shí)施權(quán)為內(nèi)容的交易。

（3）專利實(shí)施許可在時(shí)間上受到專利權(quán)期限的限制。

（4）專利實(shí)施許可在范圍上受到專利權(quán)地域性的限制。

（5）專利實(shí)施許可在貿(mào)易伙伴、審批程序以及法律調(diào)整上受到限制。

四、簡(jiǎn)述在哪些情況下可以實(shí)行專利的強(qiáng)制許可？

專利法規(guī)定的強(qiáng)制許可的情況有以下幾種：

（1）具備實(shí)施條件的單位以合理的條件請(qǐng)

求發(fā)明或者實(shí)用新型專利權(quán)人許可實(shí)施其專利，而未能在合理長(zhǎng)的時(shí)間內(nèi)獲得這種許可時(shí)，專利局根據(jù)該單位的申請(qǐng)，可以給予實(shí)施該發(fā)明專利或者實(shí)用新型專利的強(qiáng)制許可。

（2）在國(guó)家出現(xiàn)緊急狀態(tài)或者非常情況時(shí)，或者為了公共利益的目的，專利局可以給予實(shí)施發(fā)明或者實(shí)用新型專利的強(qiáng)制許可。

（3）一項(xiàng)取得專利權(quán)的發(fā)明或者實(shí)用新型比前已經(jīng)取得專利權(quán)的發(fā)明或者實(shí)用新型具有顯著經(jīng)濟(jì)意義的重大技術(shù)進(jìn)步，其實(shí)施又有賴于前一發(fā)明或者實(shí)用新型的實(shí)施的，專利行政部門根據(jù)后一專利權(quán)人的申請(qǐng)，可以給予實(shí)施前一發(fā)明或者實(shí)用新型的強(qiáng)制許可。

五、簡(jiǎn)述構(gòu)成專利侵權(quán)行為的必備條件。

（1）被侵犯的專利權(quán)必須具有法律效力。

（2）有侵害行為的存在。

（3）未經(jīng)專利權(quán)人許可而實(shí)施。

（4）以生產(chǎn)經(jīng)營(yíng)為目的。

（5）不屬于法律規(guī)定的不視為侵害專利權(quán)的行為。

申請(qǐng)專利用于職稱評(píng)定有哪些作用；具體詳情分析如下：

1、我國(guó)專利申請(qǐng)分為發(fā)明、實(shí)用新型和外觀設(shè)計(jì)三種類型。

發(fā)明是指新產(chǎn)品、新方法、新技術(shù)、新工藝，也可以是現(xiàn)有產(chǎn)品方法的改進(jìn)。

實(shí)用新型俗稱小發(fā)明，是指對(duì)有形產(chǎn)品所做的改進(jìn)。需要注意的是：只有設(shè)計(jì)產(chǎn)品形狀、構(gòu)造或其結(jié)合時(shí)，才可以申請(qǐng)實(shí)用新型專利，如果是關(guān)于工藝、配方等技術(shù)方案仍屬于發(fā)明的范疇。

外觀設(shè)計(jì)顧名思義是指設(shè)計(jì)產(chǎn)品的形狀、圖案或者其結(jié)合的新設(shè)計(jì)，或者色彩與形狀、圖案結(jié)合的新設(shè)計(jì)。

2、目前我國(guó)的發(fā)明專利授權(quán)率較低，專利審查周期較長(zhǎng)，一般發(fā)明專利授權(quán)時(shí)間在2～3年。相對(duì)于發(fā)明專利，實(shí)用新型和外觀設(shè)計(jì)專利的授權(quán)時(shí)間一般在4~6個(gè)月。授權(quán)周期短，授權(quán)率高。

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