潔凈空間的溫濕度主要是根據(jù)工藝要求來確定，但在滿足工藝要求的條件下，應(yīng)考慮到人的舒服感。隨著空氣潔凈度要求的提高，出現(xiàn)了工藝對(duì)溫濕度的要求也越來越嚴(yán)的趨勢(shì)。

具體工藝對(duì)溫度的要求以后還要列舉，但作為總的原則看，由于加工精度越來越精細(xì)，所以對(duì)溫度波動(dòng)范圍的要求越來越小。例如在大規(guī)模集成電路生產(chǎn)的光刻曝光工藝中，作為掩膜板材料的玻璃與硅片的熱膨脹系數(shù)的差要求越來越小。直徑100 um的硅片，溫度上升1度，就引起了0.24um線性膨脹，所以有±0.1度的恒溫，同時(shí)要求濕度值一般較低，因?yàn)槿顺龊挂院?，?duì)產(chǎn)品將有污染，特別是怕鈉的半導(dǎo)體車間，這種車間不宜超過25度。

濕度過高產(chǎn)生的問題更多。相對(duì)濕度超過55時(shí)，冷卻水管壁上會(huì)結(jié)露，如果發(fā)生在裝置或電路中，就會(huì)引起各種事故。相對(duì)濕度在50時(shí)易生銹。此外，濕度太高時(shí)將通過空氣中的水分子把硅片表面粘著的灰塵化學(xué)吸附在表面耐難以清除。相對(duì)濕度越高,粘附的難去掉，但當(dāng)相對(duì)濕度低于30時(shí)，又由于靜電力的作用使粒子也容易吸附于表面，同時(shí)大量半導(dǎo)體器件容易發(fā)生擊穿。對(duì)于硅片生產(chǎn)佳溫度范圍為35—45。

凈化工作臺(tái)原理的潔凈環(huán)境是在特定的空間內(nèi)，潔凈空氣(進(jìn)濾空氣)按設(shè)定的方向流動(dòng)而形成的。以氣流方向來分，現(xiàn)有的超凈工作臺(tái)可分為垂直式，由內(nèi)向外式以及側(cè)向式。從操作質(zhì)量和對(duì)環(huán)境的影響來考慮，以垂直式較優(yōu)越。由供氣濾板提供的潔凈空氣以一個(gè)特定的速度下降通過操作區(qū)，在大約操作區(qū)的中間分開，由前端空氣吸入孔和后吸氣窗吸走，在操作區(qū)下部前后部吸入的空氣混合在一起，并由鼓風(fēng)機(jī)泵入后正壓區(qū)，在機(jī)器的上部，30的氣體通過排氣濾板從頂部排出，大約70的氣體通過供氧濾板重新進(jìn)入操作區(qū)。為補(bǔ)充排氣口排出的空氣，同體積的空氣通過操作口從房間空氣中得到補(bǔ)充。這些空氣不會(huì)進(jìn)入操作區(qū)，只是形成一個(gè)空氣屏障。

無塵車間生產(chǎn)工藝對(duì)密閉性能有著特殊要求，無塵車間內(nèi)空間密閉、平面布置曲折、風(fēng)管交錯(cuò)連通、復(fù)合裝修材料復(fù)雜，有的生產(chǎn)過程中使用易燃易爆物質(zhì)，一旦發(fā)生火災(zāi)，熱量難于散發(fā)，人員不便于疏散，風(fēng)管大量布置造成火勢(shì)迅速蔓延，有的無塵車間內(nèi)部還設(shè)有大量的昂貴儀器和設(shè)備，易造成重大的人員傷亡和財(cái)產(chǎn)損失。