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冶煉硅鐵的基本原理

2021-07-01 11:09:01  1636次瀏覽 次瀏覽
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冶煉硅鐵的主要原料是二氧化硅,二氧化硅中含有98%左右的二氧化硅。二氧化硅非常穩(wěn)定,硅與氧的親和力很強,不容易分離。生產中為了從二氧化硅中分離除氧,在爐內高溫的情況下,二氧化碳中的氧被焦炭中的碳捕獲,溫度越高,碳抓住氧的能力越大。這是因為在高溫下,碳與氧的結合能力大于硅與氧的結合能力。 可見,高溫下有碳時,二氧化硅是不穩(wěn)定的,這時二氧化硅中的氧和碳反應形成氣態(tài)一氧化碳,一氧化碳通過料層從爐口逸出。

二氧化硅與碳的反應如下:SiO2+2C=Si+2CO↑

以上公式為吸熱反應。從反應式中可以看出,為了加速反應,應在爐膛內插入更深的電極,以提高爐溫,擴大坩堝面積,增加材料表面的滲透性,使一氧化碳氣體能夠盡快逸出。如果透氣的眼睛被刺穿,爐子被搗碎,有利于加速二氧化碳與硅的反應,從而迅速形成硅鐵氧體。

由于硅鐵冶煉爐中含有鐵屑和鐵屑,二氧化硅的還原反應更容易進行,這是因為還原硅和鐵形成硅鐵,從而改善了還原過程的條件,所以二氧化硅還原反應越鐵,還原反應越容易進行,生產也證明硅含量越低,單位功耗越低。例如,每噸冶煉45硅鐵的功耗約為4800度,每公斤硅的功耗約為11度。每噸冶煉75個硅鐵的功耗約為8200≤9000度,每公斤硅的功耗約為12度。每噸硅的功耗約為12000×13000度,每公斤硅的功耗約為13度。

硅鐵塊-05.jpg從化學反應的角度來看,一般認為氧化物中的氧被其他物質帶走的反應稱為還原反應。一種吸收氧的物質,稱為還原劑,如焦炭。

根據上述硅鐵冶煉原理,這是一個還原過程。

在反應過程中,二氧化硅中的大部分二氧化硅被碳還原,其他雜質和焦炭(如氧化鈣(CaO)、五氧化二磷(P2O5)和三氧化三鋁(AI2O3)等)產生的灰分也被碳還原,其中大部分五氧化二磷被還原。這些反應如下:

CaO+C=Ca+CO↑

P2O5+5C=2P+5CO↑

AI2O3+3C=2AI+3CO↑

每次反應產生的一氧化碳氣體從爐口逸出,以及其他產品如鈣、鋁和磷進入硅鐵。因此,為了保證硅鐵的質量,原料中的雜質必須盡可能少。

在冶煉過程中,一小部分二氧化硅、三氧化二鋁和氧化鈣沒有減少,形成了爐渣,爐渣中SiO 230~40%,Al_2O 345~60%,CaO 10~20%,熔點約為1600℃,當渣量大時,電耗增加,爐渣不容易從爐膛內去除,導致爐況惡化,因此必須采用較好的原料,以減少渣量,降低單位能耗。

在正常情況下,爐渣含量不宜超過硅鐵含量的5%。以上是硅鐵冶煉的基本原理,硅鐵冶煉的基本反應如下:SiO2+2C=Si+2CO↑

實際爐子中的化學反應比這更復雜。 實驗表明,氧化物的還原從高價氧化物逐漸還原為*氧化物。 在高溫下,二氧化硅的還原首先還原成氧化硅(SiO),然后在SiO2→SiO→SiO或De中還原成硅(Si

在1700℃1800℃時,硅鐵的熔煉過程中將發(fā)生以下反應:SiO2+C=SiO+CO↑

即二氧化碳硅先還原為一氧化碳,再還原為硅,其反應公式如下:SiO+C=Si+CO↑

還原硅,其中一部分與二氧化硅相互作用,將產生氧化硅,其反應公式如下:SiO2+Si=2SiO↑

從上述三個反應公式可以看出,氧化硅是促進熔煉反應的重要環(huán)節(jié)。氧化硅在高溫下處于氣體狀態(tài),在低溫下不穩(wěn)定。因此,氧化硅是爐膛坩堝中的一種氣體,從爐口逸出后,少量的氧化硅被空氣氧化(SiO+1/2O2=SiO 2)。

在1700℃或以上的高溫下,大部分氧化硅揮發(fā)到焦炭的孔隙中,與碳發(fā)生廣泛接觸和作用。根據第二個反應公式,大多數硅和鐵形成硅鐵。少數硅與二氧化硅在高溫下起作用??梢娧趸璨粌H是反應的中間產物,而且還能促進反應的加速。

由于氧化硅是一種高溫氣體,易揮發(fā)、失活,特別是在崩塌或穿孔火災時,大部分白色氣體為氧化硅。因此,必須及時處理硅氧化物塌陷或大刺痛的現象,否則會造成氧化硅的大量損失,降低產量,增加單位能耗。

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