貴金屬主要指金、銀和鉑族金屬（釕、銠、鈀、鋨、銥、鉑）等8種金屬元素。這些金屬大多數(shù)擁有美麗的色澤，具有較強的化學(xué)穩(wěn)定性，一般條件下不易與其他化學(xué)物質(zhì)發(fā)生化學(xué)反應(yīng)。

貴金屬分離是決定貴金屬回收途徑和回收指標(biāo)的關(guān)鍵階段，是共生礦綜合利用工藝的核心及技術(shù)發(fā)展的重點，要達到提取 Cu、Ni、Co 產(chǎn)品和以盡量高的回收率富集產(chǎn)出貴金屬精礦雙重目的，特點是規(guī)模大、過程長、研究和可選擇的技術(shù)多。當(dāng)貴金屬品位較高時，有色金屬冶煉技術(shù)實質(zhì)上轉(zhuǎn)化為富集提取貴金屬的載體技術(shù)，力求盡早將貴金屬從 Cu、Ni、Co 冶煉工藝中富集分離出來，以減少其積壓和周轉(zhuǎn)損失。

實物黃金買賣包括金條、金幣和金飾等交易，以持有黃金作為投資。其中金幣有兩種，即純金幣和紀(jì)念性金幣。純金幣的價值基本與黃金含量一致，價格也基本隨國際金價波動，具有美觀、鑒賞、流通變現(xiàn)能力強和保值功能。金幣較多更具有紀(jì)念意義，對于普通投資者來說較難鑒定其價值，因此對投資者的素質(zhì)要求較高，主要為滿足集幣愛好者收藏，投資增值功能不大。

隨著設(shè)備材質(zhì)及制造技術(shù)的發(fā)展，酸性介質(zhì)加壓浸出得到了迅速發(fā)展。該技術(shù)更適用于處理含貴金屬的硫化礦及 Cu、Ni、S。20 世紀(jì) 70 年代后建立的貴金屬生產(chǎn)廠，大多在火法熔煉后采用酸性加壓浸出技術(shù)，這主要是因為它可在綜合回收Cu、Ni、Co 等有價金屬的同時，貴金屬基本無分散損失，能夠獲得高品位的貴金屬精礦。

靶材的作用和用途

1、微電子領(lǐng)i域

在所有應(yīng)用產(chǎn)業(yè)中，半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)對靶材濺射薄膜的品質(zhì)要求是苛刻的。如今12英寸（300衄口）的硅晶片已制造出來．而互連線的寬度卻在減小。硅片制造商對靶材的要求是大尺寸、高純度、低偏析和細(xì)晶粒，這就要求所制造的靶材具有更好的微觀結(jié)構(gòu)。

2、顯示器用

平面顯示器（FPD)這些年來大幅沖擊以陰極射線管(CRT)為主的電腦顯示器及電視機市場，亦將帶動ITO靶材的技術(shù)與市場需求。如今的iTO靶材有兩種．一種是采用納米狀態(tài)的氧化銦和氧化錫粉混合后燒結(jié)，一種是采用銦錫合金靶材。

3、存儲用

在儲存技術(shù)方面，高密度、大容量硬盤的發(fā)展，需要大量的巨磁阻薄膜材料，CoF~Cu多層復(fù)合膜是如今應(yīng)用廣泛的巨磁阻薄膜結(jié)構(gòu)。磁光盤需要的TbFeCo合金靶材還在進一步發(fā)展，用它制造的磁光盤具有存儲容量大，壽命長，可反復(fù)無接觸擦寫的特點。

金屬靶材

鎳靶Ni、鈦靶Ti、鋅靶Zn、鉻靶Cr、鎂靶Mg、鈮靶Nb、錫靶Sn、鋁靶Al、銦靶In、鐵靶Fe、鋯鋁靶ZrAl、鈦鋁靶TiAl、鋯靶Zr、鋁硅靶AlSi、硅靶Si、銅靶Cu、鉭靶Ta、鍺靶Ge、銀靶Ag、鈷靶Co、金靶Au、釓靶Gd、鑭靶La、釔靶Y、鈰靶Ce、不銹鋼靶、鎳鉻靶NiCr、鉿靶Hf、鉬靶Mo、鐵鎳靶FeNi、鎢靶、W等。

陶瓷靶材

ITO靶、氧化鎂靶、氧化鐵靶、氮化硅靶、碳化硅靶、氮化鈦靶、氧化鉻靶、氧化鋅靶、硫化鋅靶、二氧化硅靶、一氧化硅靶、氧化鈰靶、二氧化鋯靶、五氧化二鈮靶、二氧化鈦靶、二氧化鋯靶，、二氧化鉿靶，二硼化鈦靶，二硼化鋯靶，三氧化鎢靶，三氧化二鋁靶五氧化二鉭，五氧化二鈮靶、氟化鎂靶、氟化釔靶、硒化鋅靶、氮化鋁靶，氮化硅靶，氮化硼靶，氮化鈦靶，碳化硅靶，鈮酸鋰靶、鈦酸鐠靶、鈦酸鋇靶、鈦酸鑭靶、氧化鎳靶、濺射靶材等。

合金靶材

鐵鈷靶FeCo、鋁硅靶AlSi、鈦硅靶TiSi、鉻硅靶CrSi、鋅鋁靶ZnAl、鈦鋅靶材TiZn、鈦鋁靶TiAl、鈦鋯靶TiZr、鈦硅靶TiSi、鈦鎳靶TiNi、鎳鉻靶NiCr、鎳鋁靶NiAl、鎳釩靶NiV、鎳鐵靶NiFe等。