潔凈空間的溫濕度主要是根據(jù)工藝要求來(lái)確定，但在滿足工藝要求的條件下，應(yīng)考慮到人的舒適度感。隨著空氣潔凈度要求的提高，出現(xiàn)了工藝對(duì)溫濕度的要求也越來(lái)越嚴(yán)的趨勢(shì)。具體工藝對(duì)溫度的要求以后還要列舉，但作為總的原則看，由于加工精度越來(lái)越精細(xì)，所以對(duì)溫度波動(dòng)范圍的要求越來(lái)越小。例如在大規(guī)模集成電路生產(chǎn)的光刻曝光工藝中，作為掩膜板材料的玻璃與硅片的熱膨脹系數(shù)的差要求越來(lái)越小。直徑100 um的硅片，溫度上升1度，就引起了0.24um線性膨脹，所以必須有±0.1度的恒溫，同時(shí)要求濕度值一般較低，因?yàn)槿顺龊挂院?，?duì)產(chǎn)品將有污染，特別是怕鈉的半導(dǎo)體車間，這種車間溫度不宜超過(guò)25度，濕度過(guò)高產(chǎn)生的問(wèn)題更多。相對(duì)濕度超過(guò)55%時(shí)，冷卻水管壁上會(huì)結(jié)露，如果發(fā)生在精密裝置或電路中，就會(huì)引起各種事故。相對(duì)濕度在50%時(shí)易生銹。此外，濕度太高時(shí)將通過(guò)空氣中的水分子把硅片表面粘著的灰塵化學(xué)吸附在表面難以清除。相對(duì)濕度越高,粘附的越難去掉，但當(dāng)相對(duì)濕度低于30%時(shí)，又由于靜電力的作用使粒子也容易吸附于表面，同時(shí)大量半導(dǎo)體器件容易發(fā)生擊穿。對(duì)于硅片生產(chǎn)濕度范圍為35—45%。

室內(nèi)空氣參數(shù)要求 ：

(1)溫濕度要求：溫度一般為24+2℃，相對(duì)濕度為55+5%。

(2)新風(fēng)量大。由于這類車間內(nèi)，人員比較多，可以根據(jù)以下數(shù)值應(yīng)取下列的值：非單向流潔凈室總送風(fēng)量的10-30%;補(bǔ)償室內(nèi)排風(fēng)和保持室內(nèi)正壓值所需的新鮮空氣量;保證室內(nèi)每人每小時(shí)的新鮮 空氣量≥40m3/h。

(3)送風(fēng)量大。為了滿足潔凈室內(nèi)的潔凈度及熱濕平衡，需要較大的送風(fēng)量，就300平方米的車間，吊頂高度為2.5米的，如果是萬(wàn)級(jí)，送風(fēng)量就需要300×2.5×30=22500m3/h的送風(fēng)量(換氣次數(shù)，是≥25次/h);如果是十萬(wàn)級(jí)，送風(fēng)量就需要300×2.5×20=15000m3/h的送風(fēng)量(換氣次數(shù)，是≥15次/h)。

操作過(guò)程注意事項(xiàng)

1． 動(dòng)作要輕，不能太快，以免攪動(dòng)空氣增加污染；玻璃器皿也應(yīng)輕取輕放，以免破損污染環(huán)境

2． 操作應(yīng)在近火焰區(qū)進(jìn)行。

3． 接種環(huán)、接種針等金屬器材使用前后均需灼燒，灼燒時(shí)先通過(guò)內(nèi)焰，使殘物烘干后再灼燒

4． 使用吸管時(shí)，切勿用嘴直接吸、吹吸管，而必須用洗耳球操作。

5． 觀察平板時(shí)不好 開蓋，如欲沾取菌落檢查時(shí)，必需靠近火焰區(qū)操作，平皿蓋也不能 大開，而是上下蓋適當(dāng)開縫。

6． 進(jìn)行可疑致病菌涂片染色時(shí)，應(yīng)使用夾子夾持玻片，切勿用手 直接拿玻片，以免造成污染，用過(guò)的玻片也應(yīng)置于液中浸泡，然后再洗滌。

7． 工作結(jié)束，收拾好工作臺(tái)上的樣品及器材，后用液擦拭工作臺(tái)。

供試品在檢查前，應(yīng)保持外包裝完整，不得開啟，以防污染。檢查前，用70%的酒精棉球外表面。

每次操作過(guò)程中，均應(yīng)做陰性對(duì)照，以檢查無(wú)菌操作的可靠性。

吸取菌液時(shí)，必須用吸耳球吸取，切勿直接用口接觸吸管。

接種針每次使用前后，必須通過(guò)火焰灼燒，待冷卻后，方可接種培養(yǎng)物。

帶有菌液的吸管，試管，培養(yǎng)皿等器皿應(yīng)浸泡在盛有5%來(lái)蘇爾溶液的桶內(nèi)，24小時(shí)后取出沖洗。

無(wú)菌室應(yīng)每月檢查菌落數(shù)。在超凈工作臺(tái)開啟的狀態(tài)下，取內(nèi)徑90mm的無(wú)菌培養(yǎng)皿若干，無(wú)菌操作分別注入融化并冷卻至約45℃的營(yíng)養(yǎng)瓊脂培養(yǎng)基約15ml，放至凝固后，倒置于30～35℃培養(yǎng)箱培養(yǎng)48小時(shí)，證明無(wú)菌后，取平板3～5個(gè)，分別放置工作位置的左中右等處，開蓋暴露30分鐘后，倒置于30～35℃培養(yǎng)箱培養(yǎng)48小時(shí)，取出檢查。100級(jí)潔凈區(qū)平板雜菌數(shù)平均不得超過(guò)1個(gè)菌落，10000級(jí)潔凈室平均不得超過(guò)3個(gè)菌落。如超過(guò)限度，應(yīng)對(duì)無(wú)菌室進(jìn)行徹底，直至重復(fù)檢查合乎要求為止。