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深圳市誠(chéng)峰智造有限公司

主營(yíng):深圳等離子設(shè)備廠家,深圳等離子清洗機(jī)生產(chǎn),深圳等離子表面處理

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集成電路板等離子表面處理機(jī)電話

2022-02-06 12:12:01  584次瀏覽 次瀏覽
價(jià) 格:10000

集成電路板等離子表面處理機(jī)電話:誠(chéng)峰智造

自動(dòng)On-Line式AP等離子處理系統(tǒng)CRF-APO-500W-C/W-S

名稱(Name)

自動(dòng)On-Line式AP等離子處理系統(tǒng)

型號(hào)(Model)

CRF-APO-500W-C/W-S

11-1-1-1.jpg電源(Power supply)

220V/AC,50/60Hz

等離子功率(Plasma power)

2set*600W/25KHz(Option)

處理寬幅(Processing width)

500mm(Option)

有效處理高度(Processing height)

5-15mm

處理速度(Processing speed)

0-5m/min

傳動(dòng)方式(Drive mode)

防靜電絕緣傳送帶(Antistatic insulating conveyer)

防靜電絕緣滾輪(Antistatic insulation wheel)

噴頭數(shù)量(Number)

2(Option)

工作氣體(Gas)

Compressed Air(0.4mpa)

自動(dòng)化裝置(Automation device)

全自動(dòng)上下料(Automatic loading and unloading)

產(chǎn)品特點(diǎn): 帶有自動(dòng)上下料裝置,實(shí)現(xiàn)全自動(dòng)化生產(chǎn),設(shè)備優(yōu)化升級(jí),節(jié)省人工,降低成本;

配置PLC+觸摸屏控制方式,采用運(yùn)動(dòng)模組,操作簡(jiǎn)便;

可選配噴頭數(shù)量,滿足客戶多元化需求;

配置專業(yè)集塵系統(tǒng),保證產(chǎn)品品質(zhì)和設(shè)備的整潔、干凈。

應(yīng)用范圍:主要應(yīng)用于電子行業(yè)的手機(jī)殼印刷、涂覆、點(diǎn)膠等前處理,手機(jī)屏幕的表面處理;工業(yè)的航空航天電連接器表面清洗;通用行業(yè)的絲網(wǎng)印刷、轉(zhuǎn)移印刷前處理等。

隨著基礎(chǔ)工業(yè)及高新技術(shù)產(chǎn)品的發(fā)展,對(duì)優(yōu)質(zhì)、表面改性及涂層技術(shù)的需求向縱深延伸,國(guó)內(nèi)外在該領(lǐng)域與相關(guān)學(xué)科相互促進(jìn)的局勢(shì)下,在金屬生物材料表面改性與涂層工藝模擬和性能預(yù)測(cè)等方面都有著突破性進(jìn)展。表面改性與涂層技術(shù)作為新型金屬生物材料發(fā)展的重要組成部分,已經(jīng)滲透到傳統(tǒng)工業(yè)與高新技術(shù)產(chǎn)業(yè)部門(mén),根據(jù)應(yīng)用的要求反過(guò)來(lái)又促進(jìn)表面功能覆層技術(shù)的進(jìn)一步發(fā)展。根據(jù)使用要求,對(duì)材料表面進(jìn)行設(shè)計(jì)、對(duì)表面性能參數(shù)進(jìn)行剪裁,使之符合特定要求,并進(jìn)一步實(shí)現(xiàn)對(duì)表面覆蓋層組織結(jié)構(gòu)和性能的預(yù)測(cè)等,已成為低溫等離子體表面改性技術(shù)的重要研究方向。各種等離子體氣相沉積是當(dāng)前世界上研究機(jī)構(gòu)和大學(xué)競(jìng)相開(kāi)展的具有挑戰(zhàn)性的研究課題,國(guó)外已對(duì)等離子體化學(xué)氣相沉積(PCVD)以及其它表面改性方法開(kāi)展了計(jì)算機(jī)模擬研究,針對(duì)PCVD過(guò)程進(jìn)行模擬,采用宏觀和微觀多層次模型,對(duì)等離子體工藝和涂層各種性能和基體的結(jié)合力進(jìn)行模擬和預(yù)測(cè);對(duì)金屬表面滲層性能應(yīng)力等進(jìn)行計(jì)算機(jī)模擬,可更好地控制和優(yōu)化工藝過(guò)程。

今后根據(jù)國(guó)內(nèi)外等離子體表面改性技術(shù)的發(fā)展,結(jié)合生物醫(yī)學(xué)工程的需求與現(xiàn)狀,在期間主要發(fā)展一批先進(jìn)適用的金屬材料表面功能覆層關(guān)鍵技術(shù),包括新型低溫等離子體氣相沉積技術(shù)及裝備,表面涂層工藝及質(zhì)量的數(shù)值模擬以及優(yōu)化控制的研究與開(kāi)發(fā)等內(nèi)容。

綜上所述,低溫等離子體技術(shù)以其特有的優(yōu)點(diǎn)正做許多科學(xué)工作者用于金屬生物材料的表而改性和表面膜合成研究,但這些研究大多還處于開(kāi)發(fā)階段或試驗(yàn)階段。隨著等離子體理論研究的深入和工藝問(wèn)題的解決,低溫等離子體表面改性技術(shù)一定會(huì)提高金屬材料的生物學(xué)特性,減少毒副作用,在醫(yī)學(xué)的應(yīng)用中起到積極作用。

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