回收硅片的清潔，特別是硅廢料的清潔方法，其從廢硅中去除表面污垢，一般包括以下步驟。我希望你能認真地看一看。

1。硅材料浸在堿溶液中。

2。當堿性溶液中的硅材料上浮時，回收硅片被撈出，用純水沖洗并排出。

3。浸泡在第二種堿溶液中。

4。當堿性溶液中的硅材料上浮時，硅材料被撈出，用純水沖洗并排出。

5。浸泡在鹽酸和過氧化氫的混合物中，用壓縮空氣吹泡泡。

6。將浸泡在中和液中的硅材料放入純水中浸泡，打撈干燥。

雜質(zhì)線痕：由多晶硅錠內(nèi)雜質(zhì)引起，在切片過程中無法完全去除，導致硅片上產(chǎn)生相關線痕。硅錠雜質(zhì)除會產(chǎn)生雜質(zhì)線痕外，還會導致切片過程中出現(xiàn)"切不動"現(xiàn)象。如未及時發(fā)現(xiàn)處理，可導致斷線而產(chǎn)生更大的損失。

何為降級組件？

簡單來講，降級組件是因為外觀、性能等有瑕疵而不滿足正常產(chǎn)品質(zhì)量標準的產(chǎn)品，這些組件在出廠時峰值功率可以保證，但是組件不同負荷下的一致性、衰減的穩(wěn)定性及對于溫度敏感性等得不到保證。

單晶硅用于太陽能電池無疑轉換效率是的，在大規(guī)模應用和工生產(chǎn)中仍占據(jù)主導地位，但是受到單晶硅材料價格及相應繁瑣的電池工藝影響，致使單晶硅成本價格居高不下，要想大幅度降低其成本是非常困難的，為了節(jié)省高質(zhì)量材料，尋找單晶硅電池的替代品具有很大的前景。