電鍍硬鉻的鉻酐的水溶液是鉻酸，是鉻鍍層的惟一來(lái)源。實(shí)踐證明，鉻酐的濃度可以在很寬的范圍內(nèi)變動(dòng)。例如，當(dāng)溫度在45～50℃，陰極電流密度l0A/dm2時(shí)，鉻酐濃度在50～500g/L范圍內(nèi)變動(dòng)，甚至高達(dá)800g/L時(shí)，均可獲得光亮鍍鉻層。但這并不表示鉻酐濃度可以隨意改變，一般生產(chǎn)中采用的鉻酐濃度為l50～400g/L之間。

硬鉻電鍍廠表示，鉻酸與硫酸之比必須嚴(yán)格控制，把硫酸控制在下限以控制三價(jià)鉻的增加。過(guò)多的三價(jià)鉻本身是鍍鉻中有害的金屬雜質(zhì)?？刂屏蛩岬暮亢艽蟪潭壬弦种迫齼r(jià)鉻的增加，延長(zhǎng)鍍液壽命。

硬鉻電鍍工藝

電鍍時(shí)，鍍層金屬做陽(yáng)極，被氧化成陽(yáng)離子進(jìn)入電鍍液；待鍍的金屬制品做陰極，鍍層金屬的陽(yáng)離子在金屬表面被還原形成鍍層。為排除其它陽(yáng)離子的干擾，且使鍍層均勻、牢固，需用含鍍層金屬陽(yáng)離子的溶液做電鍍液，以保持鍍層金屬陽(yáng)離子的濃度不變。電鍍硬鉻的目的是在基材上鍍上金屬鍍層，改變基材表面性質(zhì)或尺寸.電鍍能增強(qiáng)金屬的抗腐蝕性、增加硬度、防止磨耗、提高導(dǎo)電性、潤(rùn)滑性、耐熱性、和表面美觀。

硬鉻電鍍工藝的特點(diǎn)

1、高陰極電流效率，可達(dá)22~30%。

2、高沉積速度，一般是傳統(tǒng)鍍鉻的2~3倍。

3、不會(huì)腐蝕陰極低電流密度區(qū)的底材。

4、鍍層硬度達(dá)HV900~1200。

5、微裂紋數(shù)達(dá)1000條/寸。

6、鍍層厚度均勻，有良好的分散能力。

7、鍍液維護(hù)容易，控制簡(jiǎn)單。

8、無(wú)固體添加之鉻塵和濺水現(xiàn)象。

9、無(wú)陽(yáng)極腐蝕，勿須使用特殊陽(yáng)極