BTE-PECVD是我公司研發(fā)的一款單溫區(qū)的PECVD管式爐系統(tǒng)，它是由射頻電源系統(tǒng)，加熱系統(tǒng)、多通道質(zhì)子混氣系統(tǒng)和真空系統(tǒng)組成。此款PECVD系統(tǒng)對于生長納米線、石墨烯或SiC薄膜是一個很好的實驗幫手。產(chǎn)品特點

1.該設備生長溫度更低

2.使用滑軌爐實現(xiàn)快速升溫和降溫，沉積速率快

3.設備輝光均勻等效，均勻生長，成膜質(zhì)量好

4.支持外部真空規(guī)和壓力變送器

5.支持智能進氣，根據(jù)需要設定不同的溫度，自動進氣，進氣定時間到后自動停止進氣

6.支持云端數(shù)據(jù)存儲，隨時查看數(shù)據(jù)

7.支持爐膛移動速度調(diào)節(jié)

8.支持射頻電源根據(jù)外部工況條件自動啟動停止

9.支持壓力恒定，壓力可以設定

10.支持超壓保護，壓力值可以設定，超過后系統(tǒng)自動進入保護狀態(tài)