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半導體酸堿廢氣凈化工藝方法

2023-10-09 06:14:02  369次瀏覽 次瀏覽
價 格:面議

半導體主要成分:半導體行業(yè)廢氣主要為有機廢氣和酸堿廢氣兩類。有機類有:非甲烷總烴、氮氧化物、二氧化硫等;酸堿類有:氨氣、硫酸霧、氟化物、氯化物、氯氣等。

半導體酸堿性廢氣:

工藝流程: 酸/堿性廢氣→酸/堿式洗滌塔→離心風機→煙囪(達標排放)

半導體有機類廢氣VOCs

收集廢氣→沸石轉(zhuǎn)輪吸附裝置→TO直燃式焚燒爐

同時整套裝置安q、可靠、無任何二次污染。

由于半導體行業(yè)對操作室清潔度要求,通常使用風機抽取工藝過程中揮發(fā)的各類廢氣,因此半導體行業(yè)廢氣排放具有排氣量大、排放濃度小的特點。

半導體酸堿廢氣凈化工藝方法

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