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ITO靶材的制備通常采用物相沉積（PVD）或化學氣相沉積（CVD）等方法。PVD法通過濺射技術將銦和錫等材料沉積在基材上，形成ITO薄膜。CVD法則是通過氣相反應在基材表面生成ITO薄膜。這兩種方法都能夠生產高質量、均勻的ITO薄膜，但PVD法更為常見。

ITO靶材的應用領域

液晶顯示器（LCD）： ITO薄膜用作液晶顯示器的透明電極，通過在薄膜上施加電場來調節(jié)液晶的排列，實現(xiàn)像素的控制。

觸摸屏： ITO作為觸摸屏的導電層，使設備能夠對觸摸信號做出響應，實現(xiàn)觸摸操作。

太陽能電池： ITO用作太陽能電池的透明電極，幫助太陽能電池吸收太陽能并產生電流。

有機發(fā)光二極管（OLED）： ITO薄膜在OLED中用作電極，幫助實現(xiàn)有機發(fā)光材料的電致發(fā)光。

導電玻璃： ITO涂覆在玻璃表面，形成導電玻璃，用于制造顯示器、光伏電池等。