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鈀催化劑(英文名稱palladium catalyst)是一種以金屬鈀為主要活性組分,使用鈀黑或鈀的鹽類將鈀載于氧化鋁、沸石等載體上,以鈉、鎘、鉛等鹽為助催化劑,制成的各種催化劑,是化學(xué)和化工反應(yīng)過程經(jīng)常采用的一種催化劑,具有催化活性高,選擇性強(qiáng),催化劑制作方便,使用量少,可以通過制造方法的變化和改進(jìn),與其他金屬或助催化劑活性組分復(fù)配,優(yōu)化性能。應(yīng)用領(lǐng)域廣,能夠反復(fù)再生和活化使用,壽命長,廢催化劑的金屬鈀可以回收再利用等優(yōu)越性。許多鈀催化劑品種都已成為專利產(chǎn)品應(yīng)用于各行各業(yè),具有新的結(jié)構(gòu)及催化功能的鈀催化劑仍在不斷涌現(xiàn),使許多難以實(shí)現(xiàn)的反應(yīng)過程成為可能,使許多工業(yè)生產(chǎn)過程得到改善,是工藝過程簡化、經(jīng)濟(jì)效益提高,因此鈀催化劑的發(fā)展前景遠(yuǎn)大喜人。
ITO,全稱為氧化銦錫(Indium Tin Oxide),是一種廣泛應(yīng)用于光電領(lǐng)域的透明導(dǎo)電材料。由于其優(yōu)異的電導(dǎo)率和透明度,ITO靶材被廣泛用于液晶顯示器、觸摸屏、太陽能電池等各種電子器件的制造中。其主要成分是銦氧化物(In2O3)和錫氧化物(SnO2),具有高度的折射率和透明性,適用于要求透明導(dǎo)電性能的應(yīng)用。
ITO靶材的制備通常采用物相沉積(PVD)或化學(xué)氣相沉積(CVD)等方法。PVD法通過濺射技術(shù)將銦和錫等材料沉積在基材上,形成ITO薄膜。CVD法則是通過氣相反應(yīng)在基材表面生成ITO薄膜。這兩種方法都能夠生產(chǎn)高質(zhì)量、均勻的ITO薄膜,但PVD法更為常見。