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    2024-12-31 09:00:01 177次瀏覽
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    鈀催化劑的種類很多,簡單地可分為有載體的鈀催化劑和無載體催化劑,在實際應(yīng)用中,基本上都是有載體的鈀催化劑,這些載體主要有各種氧化鋁、沸石、碳載體等,在化工過程中主要應(yīng)用在各種加氫還原過程。既有全加氫,也有選擇加氫,既有氣相過程、也有液相過程。這些典型的過程有:醇、醛、酸、酯、酸酐、芳烴、雜環(huán)化物中不飽和鍵的加氫飽和,加氫還原反應(yīng)。例如乙烯、丙烯、丁烷丁烯餾分中炔烴、二烯烴的選擇加氫脫除。采用含千分之幾鈀含量的氧化鋁載體催化劑。反應(yīng)條件一般在50~150℃,壓力0.5~3MPa,氣相或液相進行。又如醋酸或醋酸乙酯加氫生產(chǎn)乙醇,順丁烯二酸酐加氫生產(chǎn)丁二酸,進一步加氫生產(chǎn)丁二醇??啡┘託涿擊驶a(chǎn)呋喃,進一步加氫生產(chǎn)四氫呋喃。一般采用含鈀量在百分之幾的鈀含量的碳載體催化劑,成功地實現(xiàn)了大規(guī)模工業(yè)化生產(chǎn)。反應(yīng)條件為苛刻的是對苯二甲酸中微量對羧基苯甲醛的脫除。對二甲苯氧化生產(chǎn)對苯二甲酸中含有0.1~0.5%的對羧基苯甲醛,后者的存在,影響聚酯的質(zhì)量,必需去除至25ppm以下,采用含鈀6%的鈀—碳催化劑,在10MPa及200~300℃高溫,對對苯二甲酸水溶液條件下進行加氫反應(yīng),實現(xiàn)了對苯二甲酸的精制。

    ITO靶材的制備通常采用物相沉積(PVD)或化學(xué)氣相沉積(CVD)等方法。PVD法通過濺射技術(shù)將銦和錫等材料沉積在基材上,形成ITO薄膜。CVD法則是通過氣相反應(yīng)在基材表面生成ITO薄膜。這兩種方法都能夠生產(chǎn)高質(zhì)量、均勻的ITO薄膜,但PVD法更為常見。

    綜上所述,鑒別優(yōu)質(zhì)鍍銀板和劣質(zhì)鍍銀板需要綜合考慮表面質(zhì)量、鍍層厚度、導(dǎo)電性能以及生產(chǎn)廠家和品牌等因素。消費者在購買鍍銀板時,應(yīng)選擇知名生產(chǎn)廠家和品牌的優(yōu)質(zhì)產(chǎn)品,并注意檢查產(chǎn)品的表面質(zhì)量、鍍層厚度和導(dǎo)電性能。只有購買到優(yōu)質(zhì)的鍍銀板,才能保證產(chǎn)品的性能和使用壽命,同時減少對環(huán)境的污染和資源的浪費。

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