鈀催化劑（英文名稱palladium catalyst）是一種以金屬鈀為主要活性組分，使用鈀黑或鈀的鹽類將鈀載于氧化鋁、沸石等載體上，以鈉、鎘、鉛等鹽為助催化劑，制成的各種催化劑，是化學(xué)和化工反應(yīng)過程經(jīng)常采用的一種催化劑，具有催化活性高，選擇性強，催化劑制作方便，使用量少，可以通過制造方法的變化和改進，與其他金屬或助催化劑活性組分復(fù)配，優(yōu)化性能。應(yīng)用領(lǐng)域廣，能夠反復(fù)再生和活化使用，壽命長，廢催化劑的金屬鈀可以回收再利用等優(yōu)越性。許多鈀催化劑品種都已成為專利產(chǎn)品應(yīng)用于各行各業(yè)，具有新的結(jié)構(gòu)及催化功能的鈀催化劑仍在不斷涌現(xiàn)，使許多難以實現(xiàn)的反應(yīng)過程成為可能，使許多工業(yè)生產(chǎn)過程得到改善，是工藝過程簡化、經(jīng)濟效益提高，因此鈀催化劑的發(fā)展前景遠(yuǎn)大喜人。

鈀催化劑的種類很多，簡單地可分為有載體的鈀催化劑和無載體催化劑，在實際應(yīng)用中，基本上都是有載體的鈀催化劑，這些載體主要有各種氧化鋁、沸石、碳載體等，在化工過程中主要應(yīng)用在各種加氫還原過程。既有全加氫，也有選擇加氫，既有氣相過程、也有液相過程。這些典型的過程有：醇、醛、酸、酯、酸酐、芳烴、雜環(huán)化物中不飽和鍵的加氫飽和，加氫還原反應(yīng)。例如乙烯、丙烯、丁烷丁烯餾分中炔烴、二烯烴的選擇加氫脫除。采用含千分之幾鈀含量的氧化鋁載體催化劑。反應(yīng)條件一般在50~150℃，壓力0.5~3MPa，氣相或液相進行。又如醋酸或醋酸乙酯加氫生產(chǎn)乙醇，順丁烯二酸酐加氫生產(chǎn)丁二酸，進一步加氫生產(chǎn)丁二醇。糠醛加氫脫羰基生產(chǎn)呋喃，進一步加氫生產(chǎn)四氫呋喃。一般采用含鈀量在百分之幾的鈀含量的碳載體催化劑，成功地實現(xiàn)了大規(guī)模工業(yè)化生產(chǎn)。反應(yīng)條件為苛刻的是對苯二甲酸中微量對羧基苯甲醛的脫除。對二甲苯氧化生產(chǎn)對苯二甲酸中含有0.1~0.5%的對羧基苯甲醛，后者的存在，影響聚酯的質(zhì)量，必需去除至25ppm以下，采用含鈀6%的鈀—碳催化劑，在10MPa及200~300℃高溫，對對苯二甲酸水溶液條件下進行加氫反應(yīng)，實現(xiàn)了對苯二甲酸的精制。

ITO，全稱為氧化銦錫（Indium Tin Oxide），是一種廣泛應(yīng)用于光電領(lǐng)域的透明導(dǎo)電材料。由于其優(yōu)異的電導(dǎo)率和透明度，ITO靶材被廣泛用于液晶顯示器、觸摸屏、太陽能電池等各種電子器件的制造中。其主要成分是銦氧化物（In2O3）和錫氧化物（SnO2），具有高度的折射率和透明性，適用于要求透明導(dǎo)電性能的應(yīng)用。

ITO靶材的制備通常采用物相沉積（PVD）或化學(xué)氣相沉積（CVD）等方法。PVD法通過濺射技術(shù)將銦和錫等材料沉積在基材上，形成ITO薄膜。CVD法則是通過氣相反應(yīng)在基材表面生成ITO薄膜。這兩種方法都能夠生產(chǎn)高質(zhì)量、均勻的ITO薄膜，但PVD法更為常見。