純度：99.999%

用途：在集成電路、半導(dǎo)體和電真空器件制造中用作保護(hù)氣和運(yùn)載氣，化學(xué)氣相淀積時(shí)的載氣，液體擴(kuò)散源的攜帶氣，在高溫?cái)U(kuò)散爐中用作器件的保護(hù)氣。高純氮在外延、光刻、清洗和蒸發(fā)等工序中，作為置換、干燥、貯存和輸送用氣體。顯像管制造中要求氮?dú)饧兌葹?9.99%以上。在航天技術(shù)中，液氫加注系統(tǒng)必須先用高純氮置換，再用高純氦置換。