太陽能擴散爐主要滿足光伏電池生產(chǎn)線對125mm×125mm、156mm×156mm多晶硅、單晶硅硅片進(jìn)行擴散工藝。目前有第二代閉管擴散爐和第三代軟著陸擴散爐。

技術(shù)指標(biāo)：

可處理硅片尺寸：125mm×125mm、156mm×156mm

外型形式：臥式1—4管結(jié)構(gòu)

載片量：400片／管

擴散方式：閉管擴散、軟著陸全封閉

工作溫度：200℃—1300℃

恒溫區(qū)長度及精度：200mm—1100mm≤±1℃

單點溫度穩(wěn)定性、重復(fù)性： ≤±1℃／24h

溫度控制：5段控溫

總功率：120KVA

送片裝置：懸臂推拉舟，碳化硅槳載重17kg

氣路系統(tǒng)：1—5路工藝氣體／管

氣體控制：進(jìn)口MFC

控制方式：工控機、觸摸屏

Thinnerwafers：180Um

Break rate：0.8％

方阻均勻度范圍：片內(nèi)±5％，片間±5％，批間±5％