青島福潤德微電子設(shè)備有限公司坐落在山東省青島市城陽區(qū)北萬工業(yè)園,交通便利,環(huán)境優(yōu)美,距離流亭國際機(jī)場僅五公里,現(xiàn)有廠房面積2000余平方米,固定資產(chǎn)800萬元,共有員工50余人,工程技術(shù)人員10余人。是一批具有豐富技術(shù)經(jīng)驗(yàn)和敬業(yè)精神的團(tuán)隊(duì)所組成,是我國微電子專用設(shè)備定點(diǎn)生產(chǎn)廠家之一,中國半導(dǎo)體專用設(shè)備行業(yè)協(xié)會理事單位,在國內(nèi)外享有盛譽(yù),為國家863計劃做出重大貢獻(xiàn)。
青島福潤德微電子設(shè)備有限公司是一家集控制技術(shù)、真空技術(shù)、熱工技術(shù)為一體的高新技術(shù)企業(yè)。目前的主要產(chǎn)品有:太陽能擴(kuò)散爐、程控高低溫擴(kuò)散爐、微控高低溫擴(kuò)散爐、熱氧化擴(kuò)散爐、低壓化學(xué)氣相沉積設(shè)備,真空燒結(jié)爐、氫氣爐、鏈?zhǔn)綗Y(jié)爐、隧道爐、LED專用合金爐、LED專用交換爐、高純材料提純專用氧化爐、升華爐、還原爐、精餾爐、高精度智能溫度控制系統(tǒng)和替代進(jìn)口的擴(kuò)散爐爐體、PECVD爐體及采用德國技術(shù)生產(chǎn)的渦街流量計,同時承接各種微電子生產(chǎn)線及進(jìn)口半導(dǎo)體專用設(shè)備的翻新改造工作。
“以人為本,欲做生意,先學(xué)做人”的立廠之根,和“以客戶至上,質(zhì)量,服務(wù)無止境”的立廠之本,堅持產(chǎn)品設(shè)計和服務(wù)質(zhì)量的持續(xù)發(fā)展,青島福潤德會不斷創(chuàng)新,提高核心競爭力,以高品質(zhì)的產(chǎn)品、優(yōu)質(zhì)的售后服務(wù)、合理的價格與新老客戶真誠合作。
1360642638擴(kuò)散爐主要滿足半導(dǎo)體電力電子器件、大功率集成電路等行業(yè),對所加工硅片進(jìn)行擴(kuò)散、氧化、退火、合金等工藝。主要由擴(kuò)散爐加熱爐體、氣源系統(tǒng)、控制系統(tǒng)、超凈化操作系統(tǒng)等組成。選用工控機(jī)微控...
擴(kuò)散爐主要滿足半導(dǎo)體電力電子器件、大功率集成電路等行業(yè),對所加工的硅片進(jìn)行擴(kuò)散、氧化、退火、合金等工藝。主要由擴(kuò)散爐加熱爐體、氣源系統(tǒng)、控制系統(tǒng)、超凈化操作系統(tǒng)等組成。選用工控機(jī)微控方式或者程控方式操...
氧化擴(kuò)散爐性能特點(diǎn): ◆具有可編程的升、降溫功能 ◆采用濾波器、屏蔽板等裝置,有效解決電網(wǎng)、磁場的干擾 ◆windowsxp全中文視窗操作系統(tǒng),可儲存1000條曲線,每條曲線設(shè)置30步 ◆...
鏈?zhǔn)綘t主要用于集成電路、電力電子器件,如橋式整流器、二極管、三極管等在氫氣、氮?dú)?、或氫氮混合氣體的保護(hù)下進(jìn)行焊接、封裝、烘干、還原、退火等。主要技術(shù)指標(biāo):◆工作溫度:200℃—1100℃◆溫度控制精度...
真空燒結(jié)爐主要用于電子器件、可控硅模塊、熱敏電阻、磁性材料、陶瓷金屬化行業(yè)在真空環(huán)境下進(jìn)行燒結(jié)、封裝、退火、焊接等工藝。真空爐技術(shù)指標(biāo): 真空室工位數(shù):1-3位 真空度:1Pa,加...
真空燒結(jié)爐主要用于電子器件、可控硅模塊、熱敏電阻、磁性材料、陶瓷金屬化行業(yè)在真空環(huán)境下進(jìn)行燒結(jié)、封裝、退火、焊接等工藝。真空爐技術(shù)指標(biāo): 真空室工位數(shù):1-3位 真空度:1Pa,加...
井式/立式真空爐主要用于半導(dǎo)體器件燒結(jié)、封焊,太陽能電池片烘干、焊接及金屬化管殼等氣密性封裝,玻璃容器的燒結(jié)及各種零件在氫氮保護(hù)下進(jìn)行的工藝。 井式真空爐主要技術(shù)參數(shù) 真空室工位數(shù):1-3位 ...
LED專用爐主要滿足LED芯片制造行業(yè),對圓片及殘片進(jìn)行合金、退火、擴(kuò)散、氧化等工藝。主要性能指標(biāo):外型形式:臥式1—4管結(jié)構(gòu),水平爐管工作溫度:200℃—1100℃恒溫區(qū)長度:≥600mm硅片規(guī)格:...
滿足半導(dǎo)體集成電路,電力電子器件,光電子等行業(yè)用于在硅片上淀積SiO2、Si3N4、Poly-Si、磷硅玻璃、硼硅玻璃、非晶硅及難熔金屬硅化物等多種薄膜工藝。CVD系統(tǒng)性能特點(diǎn):結(jié)構(gòu)形式:1—4管臥式...
滿足半導(dǎo)體集成電路,電力電子器件,光電子等行業(yè)用于在硅片上淀積SiO2、Si3N4、Poly-Si、磷硅玻璃、硼硅玻璃、非晶硅及難熔金屬硅化物等多種薄膜工藝。CVD系統(tǒng)性能特點(diǎn):結(jié)構(gòu)形式:1—4管臥式...
太陽能擴(kuò)散爐主要滿足光伏電池生產(chǎn)線對125mm×125mm、156mm×156mm多晶硅、單晶硅硅片進(jìn)行擴(kuò)散工藝。目前有第二代閉管擴(kuò)散爐和第三代軟著陸擴(kuò)散爐。 技術(shù)指標(biāo):可處理硅片尺寸:12...
網(wǎng)帶式快速燒結(jié)爐,是針對太陽能電池生產(chǎn)線專門開發(fā)的一種集燒結(jié)、烘干于一體的燒結(jié)爐。利用紅外技術(shù)和高品質(zhì)爐膛材料,提高設(shè)備的熱效率;采用先進(jìn)的溫度控制技術(shù),保證溫度控制的度。技術(shù)指標(biāo):網(wǎng)帶寬度:200—...
氫氣還原爐主要用于電力電子器件、熱敏電阻、可控硅模塊、陶瓷金屬化等在氫氣氣氛保護(hù)下進(jìn)行還原、退火、合金等工藝,也可以進(jìn)行氧化工藝。技術(shù)指標(biāo):工作溫度:200—1300℃ 加熱元件:康泰爾絲保...
高純材料提純設(shè)備主要滿足高純砷等新材料制造行業(yè),對材料進(jìn)氛保護(hù)下的燒結(jié)、升華、還原、精餾等工藝。主要性能指標(biāo): 外型形式:臥式結(jié)構(gòu),水平爐管工作溫度:200℃—1100℃恒溫區(qū)長度:根據(jù)工藝...
控制系統(tǒng)類產(chǎn)品: 溫控系統(tǒng)、氣源柜、控制柜、溫控器、溫控儀 上述系統(tǒng)可應(yīng)用于進(jìn)口設(shè)備改造,翻新等,采用中文視窗操作系統(tǒng)對爐溫、整個工藝流程進(jìn)行自動控制,并能記錄管理歷史數(shù)據(jù)??蓪?shí)時修改工藝溫度...
可完全代替進(jìn)口爐體,優(yōu)質(zhì)加熱爐絲,進(jìn)口保溫材料,采用國外先進(jìn)加工工藝,爐體可長期使用在高溫下,處理12英寸以下硅片,工作溫度200—1300℃。技術(shù)指標(biāo):加熱爐絲:瑞典康泰爾高溫爐絲保溫材料:英國摩根...
Softcollar為進(jìn)口石英纖維棉采用德國加工工藝制成,用于擴(kuò)散爐和PECVD設(shè)備中爐體和石英管之間的隔熱保溫,解決了以往用保溫棉存在的兩大問題:一是保溫棉長時間高溫下出現(xiàn)粉化脫落從而影響工作腔體潔...
擴(kuò)散爐主要滿足半導(dǎo)體電力電子器件、大功率集成電路等行業(yè),對所加工硅片進(jìn)行擴(kuò)散、氧化、退火、合金等工藝。主要由擴(kuò)散爐加熱爐體、氣源系統(tǒng)、控制系統(tǒng)、超凈化操作系統(tǒng)等組成。選用工控機(jī)微控方式或者程控方式操作...
擴(kuò)散爐主要滿足半導(dǎo)體電力電子器件、大功率集成電路等行業(yè),對所加工的硅片進(jìn)行擴(kuò)散、氧化、退火、合金等工藝。主要由擴(kuò)散爐加熱爐體、氣源系統(tǒng)、控制系統(tǒng)、超凈化操作系統(tǒng)等組成。選用工控機(jī)微控方式或者程控方式操...
氧化擴(kuò)散爐性能特點(diǎn):◆具有可編程的升、降溫功能◆采用濾波器、屏蔽板等裝置,有效解決電網(wǎng)、磁場的干擾◆windowsxp全中文視窗操作系統(tǒng),可儲存1000條曲線,每條曲線設(shè)置30步◆自動運(yùn)行中可暫停/繼...
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